محققان موسسه علوم فوتونیک (ICFO) در بارسلون اسپانیا با معرفی یک رویکرد نوین در مهندسی سلولهای خورشیدی، موفق شدند یکی از بزرگترین موانع تئوریک در صنعت فوتوولتائیک، یعنی محدودیت «شاکلی-کوایزر» (Shockley-Queisser) را به چالش بکشند. این دستاورد که در اواخر سال ۱۴۰۳ شمسی مورد توجه جامعه علمی قرار گرفته، راه را برای ارتقای بازدهی پنلهای خورشیدی تا مرز ۴۳ درصد هموار میکند.
شکستن طلسم ۳۳ درصدی؛ تحلیل محدودیت شاکلی-کوایزر
طبق تئوری فیزیکی شاکلی-کوایزر، پنلهای خورشیدی تکلایه استاندارد دارای یک سقف بازدهی نظری در حدود ۳۳ درصد هستند. دلیل اصلی این محدودیت، اتلاف انرژی به صورت گرما و تابش فوتونهای مادون قرمز است که در ادبیات مهندسی به آن «اتلاف بولتزمن» (Boltzmann loss) گفته میشود. هنگامی که نور خورشید به سطح نیمههادی برخورد میکند، فوتونها الکترونها را آزاد میکنند تا جریان الکتریسیته ایجاد شود. با این حال، تمامی الکترونها به موقع جمعآوری نمیشوند؛ بخشی از آنها مجدداً به فوتون تبدیل شده و به صورت تابش مادون قرمز از پنل خارج میشوند.
معماری نوآورانه الکترود نقره؛ فراتر از اکسید ایندیوم-قلع
تیم تحقیقاتی ICFO برای مقابله با این پدیده، ساختار الکترود جلویی سلول خورشیدی را بازطراحی کردهاند. در پنلهای متداول، از Indium Tin Oxide (ITO) به عنوان الکترود شفاف استفاده میشود. دانشمندان در این پروژه، ITO را با لایه بسیار نازکی از نقره جایگزین کردند. این لایه دو وظیفه حیاتی را همزمان ایفا میکند:
- رسانایی الکتریکی بالا برای انتقال بارها
- عملکرد مشابه یک آینه در برابر فوتونهای سرگردان
با بازتاب دادن این فوتونها به درون سلول و محدود کردن زوایای خروج تابش، انرژی بیشتری در نیمههادی محبوس شده و بازدهی تبدیل انرژی به طور چشمگیری افزایش مییابد. به گفته دکتر فرانسیسکو برنال تکسا، این روش مسیر جدیدی را برای عبور از مرزهای تعیین شده توسط فیزیک کلاسیک باز کرده است.
مشخصات فنی و پتانسیلهای ارزیابی شده
- محدودیت پیشین: ۳۳ درصد (طبق مدل تئوریک شاکلی-کوایزر)
- هدف بازدهی جدید: حدود ۴۳ درصد (در حالت نظری)
- ماده کلیدی: لایه نازک نقره (به جای اکسید ایندیوم-قلع)
- مکانیسم اثر: کاهش تلفات تابشی و مدیریت زوایای خروج فوتون
رویکردهای مکمل؛ از پروسکایت تا شکافت تکحالت (Singlet Fission)
علاوه بر تکنیک «سلول آینهای»، روشهای دیگری نیز برای بهبود بازدهی در جریان است. برای مثال، شرکت چینی Longi با استفاده از تکنولوژی سلولهای پشتهای (Stacking) متشکل از «پروسکایت» بر روی سیلیکون، به بازدهی ۳۵.۵ درصد دست یافته است. همچنین فناوری «شکافت تکحالت» که در دانشگاههای کیوشو و یوهانس گوتنبرگ در حال بررسی است، سعی دارد با تقسیم فوتونهای پرانرژی به دو بخش، دو الکترون آزاد کند تا پتانسیل تولید جریان افزایش یابد.
نتیجهگیری
تلفیق این نوآوریهای ساختاری نویدبخش آیندهای است که در آن بدون تغییر در ابعاد فیزیکی پنلها، تولید انرژی افزایش یافته و وابستگی جهانی به سوختهای فسیلی کاهش یابد. اگرچه دستاوردهای ICFO در مرحله آزمایشگاهی گامهای اولیه محسوب میشوند، اما اثبات عملی امکان ارتقای همزمان ولتاژ و جریان، نقطه عطفی در فوتوولتائیک محسوب میشود.